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等离子表面清洗设备有哪些形式?

文章出处:本站 | 网站编辑:深圳纳恩科技有限公司| 发表时间:2022-12-16
等离子表面清洗是指气体在一定条件下如射频、微波、直流辉光放电等,电离气体形成活性等离子态,利用等离子中的活性粒子与物体表面污物进行反应,或者利用等离子中的高能粒子轰击物体表面污物形成可挥发性的污物随真空泵抽出,达到清洗的目的。它是一种高效环保的清洗方法,特别是对以下1um超声波所不能清洗的污物颗粒,用等离子清洗具有非常好的效果。

等离子表面清洗设备分类

等离子表面清洗设备有哪些形式呢?,等离子表面清洗设备按照按等离子体产生方环境的不同大体上分为两大类,低压等离子表面清洗设备,大气压等离子表面清洗设备。

大气压等离子表面清洗设备

大气压低温等离子表面清洗设备是指通过改变发生器几何结构和电源激励频率等手段在大气压条件下产生的大面积、较高能量密度的非热平衡等离子体的设备。与低气压密闭环境相比,在大气压开放环境下产生和维持等离子体没有了真空系统的限制,一方面大大降低了设备的制造和维护成本,缩短了工艺流程时间,实现连续、高效、规模地制备活性粒子,另一方面这使得处理材料的尺寸要求大大降低,从而大大扩展了低温等离子体的应用领域。

大气压等离子表面清洗设备
大气压等离子表面清洗设备
近年来发展起来的大气压低温等离子体材料表面改性技术由于省去了昂贵的真空系统、降低了生产成本、有利于连续、大规模的工业化生产,因而成为表面改性与等离子体科学领域交叉研究的热点之一。研究表明,大气压低温等离子体中含量丰富种类众多的活性粒子是等离子体发挥材料改性作用的主要因素。在活性粒子的撞击下,分子间稳定的化学键被打开,产生小分子碎片同时形成大分子自由基,反应活性大大增强,同时,材料表面变粗糙有效表面积增大。产生的大分子自由基不仅可以相互反应聚合形成一层致密的网状交联层,也可以与大气压低温等离子体中的活性粒子结合从而引入亲水性极性基团(如羟基、酮基、醛基等),导致材料表面亲水性增强不仅如此,大气压低温等离子体还可以增强材料憎水性,比如等离子体处理涂抹二氧化硅油的玻璃表面后,可在玻璃表面生成一层致密的憎水膜。

低压等离子表面清洗设备

低压等离子表面清洗设备主要由四个部分组成,包括:气体供给系统、真空系统、放电腔室和等离子体电源。将待处理物放置在放电环境放电腔室中,抽真空后低气压下产生的等离子体是一种低温等离子体,气体温度大约在几十到二三百摄氏度,远低于电子温度,但又具有少量足够高能的粒子,有足够的能量处理固体表面,在一定使用范围内也不会损伤基体。
低压等离子表面清洗设备
低压等离子表面清洗设备

 
低压等离子表面清洗设备出现较早,常用于硅片及混装电路的清洗以提高键接引线和钎焊可靠性,包括去除半导体表面的有机污染以保证良好的焊点连接、引线键合以及去除、混装电路中来自键接表面由上一工序留下的有机污染,如残余焊剂、多余的树脂等。

以上就是关于等离子表面清洗设备有哪些形式的简单介绍,低温等离子表面清洗设备在材料表面上的应用属于干式工艺,改性过程中只需要被处理材料与等离子体充分接触,通过改变等离子体发生参数就得到理想的材料表面性能,具有工艺简单、节约能源、绿色环保等优点。近年来,常压等离子表面清洗设备得到迅速的发展,相对于低压等离子表面清洗设备,它无需使用真空泵,使得清洗过程所需的时间更短,价格更为低廉,效率更高。

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