等离子体产生方式

等离子体产生方式有很多种,例如气体放电、射线辐射、光电离、激光和热电离等。其中气体放电是最容易实现、应用最广泛的产生方式。气体放电的等离子体因电场和频率的不同,具有不同特性,所产生的等离子体可用于等离子清洗、刻蚀和表面改性。气体放电按电场频率区分,分为直流放电、低频放电、高频放电、微波放电等多种类型。

以上四种等离子产生方式是目前工业应用中最常见的,根据不同的等离子特性应用于不同场合。就清洗应用而言,直流辉光放电等离子密度低、效率低,且容易产生二次溅射污染;微波放电等离子性能最佳,但设备结构复杂、制造和使用成本高;射频放电方式介于两者之间,离子能量和密度比直流辉光放电高,且等离子稳定,而成本与微波放电装置相比更低,设备结构更简单,因此射频放电是等离子清洗设备的最佳产生方式。


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