等离子清洗技术在OLED制备过程中的应用

文章出处：等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间：2023-10-04

有机发光二极管（organiclightemittingdiode，OLED）是一种电流型的有机发光器件，通过载流子的注入和复合而发光的现象。在电场的作用下，阳极产生的空穴和阴极产生的电子就会发生移动，分别向空穴传输层和电子传输层注入，迁移到发光层。当二者在发光层相遇时，产生能量激子，从而激发发光分子最终产生可见光。整个器件结构层中包括：空穴传输层（HTL）、发光层（EL）和电子传输层（ETL）。其制备工艺可以分为小分子OLED工艺技术和聚合物PLED工艺技术两大类。小分子OLED通常采用蒸镀技术进行制备；PLED一般采用溶液涂布的方式。OLED显示技术具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点，近些年得到了非常快速的发展

尽管OLED有诸多优点，但是在制备过程中仍需要克服一些加工问题，其中最为关键的即为清洗。例如，在玻璃基板加工前需要对其表面进行清洗，如果玻璃表面带有污染物，其表面自由能变小，从而导致蒸镀在上面的空穴传输层发生聚集，导致成膜不均。

等离子清洗技术

等离子体又称之为plasma，被视为是除去常见的固、液、气之外物质存在的第四态，呈离子化气体状。根据等离子体自身的热平衡状态，等离子体可以分为两类，分别为热平衡等离子体和非热平衡等离子体。非热平衡态等离子体也称为低温等离子体，适用于多种材料的表面清洗改性。

等离子体清洗是通过电源激发等离子体轰击基材表面，在轰击的过程利用物理冲击可以去除吸附在基材表面的微颗粒，同时可能造成基材表面的微刻蚀；因此可以用于基材的超精密清洗。等离子体在轰击基材表面的污染物时，还可以与污染物进行反应，形成容易挥发的物质，利用真空抽走，对基材表面的有机物残留具有较好的去除作用。等离子体清洗的最大特点是：大部分处理对象的基材类型，均可以进行处理。

ITO作为OLED器件中常用的阳极材料，其表面的平整性及清洁性对器件性能有着重要的影响。然而，由于ITO基片采用光刻蚀工艺制备，在此过程中有机物会不可避免地残留在其表面。此外，一些粒径为微米级的灰尘、油污以及微生物等污染物还常存在于其表面。这将直接破坏后续有机功能层的连续性和致密性，降低器件性能。因此，需要清洗ITO基片并进行表面处理，除去污染物以提高基底的表面润湿性。

氧等离子不仅可以改变ITO表面的化学组成,提高功函数等，还能彻底清除玻璃基片残留的有机物，以便于其他功能层更好地沉积成膜，对OLED器件性能具有较好的提升作用。