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200L真空等离子清洗机

  • 产品型号:NE-PE200
  • 性能特点:处理空间大,清洗效率高,等离子处理均匀
  • 产品用途:对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料表面清洗活化改性
  • 产品介绍
  • 产品参数
该设备为低温负压/真空等离子清洗机,其中比较核心的关键等离子清洗原理是基于由真空泵在腔体中抽出的真空低压状态下,利用射频源激发形成的高压交变电场将氧气或氩气等工艺气体高速运动及震荡成对应的等离子体,与物体材料表面的微颗粒污染物或者有机污染物进行物理碰撞或者发生化学反应,进而形成挥发性物质,最后再由真空泵将这些易挥发性的物质排出腔体外部,从而达到清洁及活化物体材料表面的目的。其最大特点是可实现整体和局部以及复杂结构的清洗,该射频等离子清洗机操作简单,单次可清洗数量比较大,又无废液,污染源产生。
 

真空等离子清洗机产品特点:


射频电源功率选择为0到1000W可调,频率选择为13.56MHz,同时采用电源匹配系统来调节负载阻抗,以保证最佳的等离子密度和可重复性。
电极板主体由不锈钢材料制成,通过电极接头可选择的与电源正极或负极连通,电极板由两侧的绝缘块固定在真空腔体中,整个电极系统可跟据不同需求选择电极板的极性与间距,以获得最合适的等离子体。
平行平板型的电极结构,使得在所有样品表面都得到了均匀的等离子体,并且也能提供最大的样品装载能力,因此满足均匀性和生产能力的要求。
供气系统采用高精度流量计来精确调节工作气体的流量,同时采用高稳定性的真空泵来实现废气的均衡排放。
高可靠性和稳定性、高效的功率输出、紧凑的结构设计、占地面积小、重量轻、完善的保护功能等特点。
前设开门,后方开排气孔、电源线孔,侧面开进气孔,以便于形成动态循环、均匀进气提高清洗的效果。
两路独立的气路控制便于探索不同气体配比对清洗效果的影响。
真空室材料选用材料为316不锈钢作为放电腔体,耐腐蚀性能好、耐热性强、低温情况下的强度好,冲压弯曲等热加工性好,无磁性。
用PLC控制,工艺过程全自动完成,具有良好的互锁和报警功能。

真空等离子清洗机的最大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。等离子体清洗还具有以下几个特点:容易采用数控技术,自动化程度高;具有高精度的控制装置,时间控制的精度很高;正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层,表面质量得到保证;由于是在真空中进行,不污染环境,保证清洗表面不被二次污染。


项目 型号规格 参数
等离子体发生器 功率 0-1000W可调
频率 40KHz/13.56MHz 
抗辐射干扰高频匹配器 自动抗阻匹配,远程通信控制
真空反应腔室 腔体内部尺寸 600*600*600(宽高深)
材质 不锈钢/铝合金
电极层数 9层
腔体容积 200L
工作托盘 标配一套,材质可选(铝丝,钢丝网)
电极板分布方式 平板电极,可灵活抽取
控制系统 系统控制 PLC
触摸屏 七寸触摸屏
气体系统 气体通道 标配两路可增加(氧气、氩气、氮气等)
气体流量控制 MFC气体质量流量计
外观参数 外形尺寸 1350*1750*1200(宽*高*深)

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