实验型反应离子刻蚀机NE-RE04A

产品型号：NE-RE04A
性能特点：小型紧凑、操作简易
产品用途：刻蚀硅、二氧化硅、氮化硅、石英、聚酰亚胺等

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产品介绍
产品参数

NE-RE04A反应离子刻蚀机采用平板电容放电形式，将通入刻蚀室的工艺气体分子解离产生等离子体。等离子体中的部分活性基团与未被掩蔽的被刻蚀材料表面发生化学反应，并在射频自偏压作用下，等离子体中的正离子对被刻蚀材料表面进行物理轰击，达到对样品进行化学物理相结合刻蚀的目的。

产品特点：
· 标准射频配置：13.56 MHz 射频源，功率 300–1000W 可选，带自动匹配，等离子体稳定，重复性好。
· 各向异性刻蚀：高能离子定向轰击，刻蚀垂直度好、选择性高，满足微纳结构与介质层刻蚀需求。
· 均匀性与一致性：对称排气 /shower-head 进气设计，腔体压力精确控制（20 mTorr–8 Torr），刻蚀均匀性优。
· 触摸屏一键式操作：参数设置、存储、调用便捷，支持全自动 / 手动双模式。
· 多气体支持：标配 2–4 路气体（O₂、CF₄、Ar 等），可扩展至 6 路，适配多种刻蚀配方。

产品应用：
晶圆尺寸: 4 寸以下
适用材料: 氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、单晶硅、多晶硅
适用工艺：接触孔刻蚀、钝化层刻蚀、硬掩模刻蚀、对准标记刻蚀等
适用领域: 集成电路、功率半导体、化合物半导体、科学研究等

型号	NE-RE04A
射频电源	0～300W 连续可调 13.56MHz
腔体材质	316L 材质
腔体尺寸	Φ210mm×H160mm
刻蚀台直径	Φ119
气体流量控制器	500 SCCM
抽气系统	粗抽泵抽速≥8L/S 高真空分子泵抽速≥100L/S
控制方式	PLC+7寸触摸屏
气体	3路CHF3、SF6、CF4、Ar、O2、N2等，可扩展
电源供应	AC220V

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