微波等离子清洗机的三种清洗模式介绍
文章出处：等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间：2022-06-01
微波等离子清洗机可分为三种模式，即顺流模式、旋转模式及ECR模式。由于激发频率高，离子动能小，离子浓度高，化学等离子作用在微波等离子体中占主要部分，可以实现更均匀有效地清洗，在清洗中几乎没有物理等离子体所产生的物理冲击和溅射现象，所以微波等离子清洗机在一些敏感器件制程中的去胶和清洗工艺中具有不可替代性。
顺流及旋转清洗模式原理
顺流模式及旋转模式微波等离子清洗属于普通的微波等离子体系统，其微波反应腔中不存在稳态磁场，此时微波能量耦合是通过弹性碰撞以及非弹性碰撞实现的。而通过碰撞的方式将微波能量传递给电子的关键是碰撞几率和馈入微波能量，如果要使电子的能量达到一定程度，就必须增大电子密度或者增加馈入微波的能量，增加电子密度意味着对气体的成分及密度要求较高，而气体密度的增大会对系统的稳定工作造成影响；增加馈入微波的能量则需要增加微波源的功率、或者减少微波传输系统的损耗，而在工程上这些都是要受到具体条件限制的。这些问题就造成了普通微波等离子体系统很难产生高密度、高均匀度的等离子体，无法满足一些特殊工艺的要求。
电子的有效碰撞频率是放电气压的函数，研究表明，对于氦气，微波激发频率为时，维持无磁场放电的氦气气压范围是—。在低气压下≤时电子和中性粒子、电子和离子碰撞平均自由程都很长，即电子的有效碰撞频率很小，在此条件下为维持无磁场放电需要较高的微波输入功率和高值的谐振腔体，这是难以做到的。
因此普通微波等离子体系统多作为一种对化学反应的催化手段应用在化工领域，或应用于一些基础的材料处理领域，这些领域都对激发产生的等离子体密、度均匀度要求较低。而在大规模集成电路制造工艺、高质量材料表面改性处理等领域，对等离子体的密度、均匀度、稳定度都要求很高，普通微波等离子体系统或者不能胜任、或者需要靠大幅度增加系统复杂性和成本的方法才能够满足要求。
ECR清洗模式原理
电子回旋共振（ECR）微波等离子体系统是微波源与磁场共同组合的一种等离子体产生法，电子在磁场中作旋转运动，当磁场强度越来越强时，电子旋转的速度会越快，当磁场强度与微波源频率相近时产生共振，此共振现象有利于电子吸收微波的能量，并拥有较高能量的电子，有助于等离子体的产生。微波等离子体系统与传统的微波等离子体系统相比，具有更加优良的综合指标，而且对微波源和微波反应腔的要求大为降低，提高了材料表面改性处理、微电子、大规模集成电路制造等领域中的低温等离子体加工水平。
以上就是国产等离子清洗机厂家纳恩科技关于微波等离子清洗机的三种清洗模式的简单介绍。微波等离子清洗具有激发频率高、 自偏压小、 离子动能小、 离子浓度高、 化学反应强等特点，可以有效避免静电损伤、 实现均匀的三维清洗，与传统等离子清洗（超声或射频）相比，微波等离子清洗可以产生具有优良特性的等离子体，所以微波等离子清洗机在集成电路制程中，尤其是可靠性要求极高的军用集成电路生产过程中发挥着举足 轻重的作用，市场前景十分广阔。
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