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40KHz中频等离子清洗机和13.56MHz高频等离子清洗机的区别

文章出处:本站 | 网站编辑:深圳纳恩科技有限公司| 发表时间:2022-05-01
等离子清洗是一种干法物理化学清洗技术。它是利用低真空状态下工艺气体因电场的作用,产生辉光放电,将工艺气体电离成离子流,轰击工件表面,使其产生物理化学反应,达到清洗目的。等离子清洗机按其等离子激发频率可分为:中频(40KHz)、高频(13.56MHz)和微波(2.45GHz)三种等离子清洗机,随着频率的升高,离子浓度增大,离子能量下降。中频40KHz等离子清洗机主要应用于污染较重,且不易受到损伤的元件(如外壳、成膜基板、焊片等),其中主要是离子的物理撞击作用(物理清洗),化学清洗作用其次。微波等离子清洗机主要应用于敏感器件(半导体芯片,特别是微波器件),这时主要是离子化学反应。而13.56MHz射频等离子清洗机的应用则介于上述两者之间,兼具化学和物理清洗。

13.56MHz射频等离子清洗机与40KHz中频等离子清洗机的区别如下:


目前市面所售的等离子清洗机有低频放电方式,频率为40KHz,低频放电符合辉光放电的特性,与射频放电相比,电流很小,不存在阻抗匹配的问题,结构简单,多为电容耦合结构,因此电极的二次污染问题仍然存在。

高频放电的频率一般为10M~100MHz,这一频率属于无线电频谱范围,因此又称为射频(RF)放电,根据国际通用的规则射频放电的频率为13.56MHz。射频放电能产生和维持高密度、连续、均匀的等离子体,高频放电时,由于频率很高,带电粒子在电场周期内还未运动到极板,电场就发生了改变,带电粒子在电场作用下向反方向移动,如此往复形成振荡,因为粒子的运动行程很长,增加了与气体分子碰撞的机率,电离度比直流辉光放电高出几个数量级,而且可以在较低的电压下维持。射频放电在较高和较低的气压下都能放电,在工业中有不同应用。与直流放电相比,射频放电有以下优势:
1. 较低的气压条件下仍能放电,放电维持能量低,由于带电粒子在极间做往复运动,大大增加了电离机率,因此在较低的气压条件下仍能够维持放电,形成稳定的等离子体,最低压强可达10-1Pa。
2. 射频放电的粒子运动机制决定了具有较高的电离度。
3. 等离子体分布均匀。

综上所述40KHz中频等离子清洗机的作用主要为物理撞击反应,其撞击力度大,对被清洗表面影响最大;13.56MHz射频等离子清洗机主要为物理加化学反应(需要采用氧气、氢气、氩气等气体,如采用单独氩气则为单独物理反应),其撞击力度适中,可以去除零件表面残留的灰尘、一般氧化层等杂质。

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