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腔体式等离子清洗机的基本结构组成

文章出处:等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间:2023-05-31
典型的腔体式等离子清洗机(如下图1.1),其结构组成一般包括反应腔体和电极架系统射频与匹配系统、抽真空系统、电气系统和程序控制系统,需要操作员手动上下料,其它抽真空、射频激发、关闭、充氮气等过程均为全自动过程。腔体式等离子清洗机具有单次清洗产量大,清洗中无卡料等报警发生的特点。
腔体式等离子清洗机
腔体式等离子清洗机

 
以下就腔体式等离子清洗机的各部分结构组成做一个简单说明

1、反应腔体及电极架系统
等离子清洗之前需要对腔体进行抽真空,使用油泵或者干泵,必要时使用增压泵,抽到真空度为0.2Torr以下时,开始等离子体放电,从而进行等离子清洗清洗期间,为了保证腔体内气压稳定,真空泵需要一直运作。

2、射频匹配系统
射频匹配系统包含射频发生器和匹配箱,射频发生器是等离子体激发的核心部件,利用射频发生器输出可控能量激发清洗气体产生等离子体国际上普遍采用的工作频率为13.56MHZ,射频输出功率范围是0-1000W可调。

射频发生器与反应腔体之间必须配备匹配箱才可以实现阻抗匹配,其匹配作用有:增加放电负载吸收电源提供的能量,保护射频发生器以防止功率反射而导致射频发生器损坏,从而提高系统的效率及稳定性能。

3、电气控制系统
腔体式等离子清洗设备电气控制系统包含电路控制系统、气动控制系统、可编程逻辑控制系统、信号采集以及人机界面。

4、主程序控制页面
主程序控制页面菜单栏包含有参数管理、产品数据库管理、安装管理、报警管理等板块,可以查看各部分参数的设置情况,查看设备运行状态,也可以进行手动清洗、自动清洗切换。

传统的腔体式等离子清洗机采用射频电容耦合方式产生等离子体(CapacitorCoupledPlasma,CCP),并且采用平行内电极式放置电极板,可以产生大面积均匀等离子体。等离子体清洗技术可以用来清洗各种材料,使用先进数控技术、自动化程度高清洗设备可有效控制处理效果,可大幅提高产品良品率,生产成本却反而下降。只要等离子体的能量控制在合理范围内,便不会有损伤材料表面的情况发生,产品表面质量可以得到保障,而轻度的表面损伤(即表面粗化)还会增强材料表面的粘附力。

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