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等离子体清洗改善ITO玻璃化学镀铜层附着力

文章出处:本站 | 网站编辑:深圳纳恩科技有限公司| 发表时间:2022-11-08
传统的液晶显示屏和电容式触摸屏的生产过程中,为了使得屏与控制电路可靠的连接,需要将屏上引线部分的ITO玻璃表面覆盖薄膜金属,通过采用化学镀铜的方法可以简单、有效的实现ITO金属化。常规的化学镀铜工艺主要包括以下四个步骤:前处理→活化→解胶→化学镀铜。由于前处理工序对于ITO玻璃表面清洁程度处理不到位,影响到后面的活化工艺的均匀性,最终会使化学镀铜层出现易剥落,不均匀、清洁度差等问题。等离子体清洗可以使ITO玻璃表面改性、去除ITO表面的残余离子,使后续的活化、镀铜工艺顺利进行。
等离子体清洗
未经等离子体表面清洗的基板洁净度较差,而经等离子体清洗过的基板洁净度有所改善,并且随着处理功率和时间的增加,镀层洁净度变高。等离子体表面处理可以改善镀层洁净度的原因是,等离子体中的荷能粒电子频繁碰撞玻璃基片表面,使玻璃基片表面吸附的异物产生脱附或分解,最后被真空泵抽走,达到清洗目的同时,等离子体清洗形成的微观粗化表面是原子或分子级的,从宏观上看,基片表面去除水汽、污物后,更加平整和均匀。这些都能够提高化学镀铜层的清洁度。

经过等离子体表面处理后,ITO玻璃其水接触角减小,表面能提高,润湿性得到改善。由于化学镀铜所用的溶液均为水溶液,因此经等离子体清洗后的ITO表面与溶液的润湿性更好。


等离子体清洗改善ITO玻璃化学镀铜层附着力的原因


当ITO玻璃基片处在等离子体中时,由于表面受到等离子体中的荷能粒电子的轰击,首先基片表面吸附的环境气体、水汽、污物等被轰掉,使表面清洁活化,表面能提高,当沉积时薄膜原子或分子更好地浸润基片,增大范德华力。其次玻璃基片表面经过荷能粒电子的撞击,从微观上看,基片表面会形成许多凹坑、孔隙,在沉积过程中薄膜原子或分子进人这些凹坑、孔隙,便产生了机械锁合力。此外基片表面的粗化,使实际的表面积增大,这对增大范德华力、扩散附着力和静电力都是有利的,因此增大了总的附着力。

在化学镀铜工艺中增加等离子体清洗工序,能够减小ITO玻璃表面的水接触角、提高镀铜层的清洁度和附着力。同时,通过优化等离子体的处理条件,可使化学镀铜层的性能得到进一步改善。

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