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等离子清洗机在OLED显示屏行业中的应用

文章出处:等离子清洗机厂家 | 深圳纳恩科技有限公司| 发表时间:2023-03-08
随着OLED显示屏行业的发展,对清洗工艺及设备的要求越来越严格,制造过程的清洗皆为精密清洗,为了达到良好的清洗效果,必须不断提高洁净技术。等离子清洗机可在高真空度状态下通过射频电源起辉产生等离子体,从而对基底表面同时进行物理和化学的双重清洗,使基底表面的物质变成气态粒子,经真空泵抽气排出,从而达到清洗的目的,它可以完成常规清洗手段所无法达到的任务,不仅可以清除有机污染物、油脂等,还能够改变ITO表面的功函数,改善材料表面的润湿能力,有利于传输层溶液的铺展与旋涂。
等离子清洗机

有机发光二极管(organic light emittin gdiode,OLED)是一种电流型的有机发光器件,通过载流子的注入和复合而发光的现象。在电场的作用下,阳极产生的空穴和阴极产生的电子就会发生移动,分别向空穴传输层和电子传输层注入,迁移到发光层。当二者在发光层相遇时,产生能量激子,从而激发发光分子最终产生可见光。整个器件结构层中包括:空穴传输层(HTL)、发光层(EL)和电子传输层(ETL)。其制备工艺可以分为小分子OLED工艺技术和聚合物PLED工艺技术两大类。小分子OLED通常采用蒸镀技术进行制备;PLED一般采用溶液涂布的方式。OLED显示技术具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点,近些年得到了非常快速的发展。

尽管OLED有诸多优点,但是在制备过程中仍需要克服一些加工问题,其中最为关键的即为清洗。例如,在玻璃基板加工前需要对其表面进行清洗,如果玻璃表面带有污染物,其表面自由能变小,从而导致蒸镀在上面的空穴传输层发生聚集,导致成膜不均;在整个光刻工艺过程中,清洗仍然是首个步骤,只有清洗干净后,才能保证光刻过程的顺利进行。在OLED制备整个过程中,会涉及多步清洗,随着屏幕要求越来越高,线路越来越细,对清洗的要求也越来越高,特别是细小颗粒(1μm)的控制,这意味着清洗技术在OLED制备过程中至关重要。

清洗的分类

清洗过程分类方法较多,针对OLED清洗常用的分类方法为湿法清洗和干法清洗。顾名思义,湿法清洗主要通过清洗设备配备去离子水、有机溶剂或者一些特定的清洗剂来完成基材表面净化的过程,该过程往往需要后续的干燥;干法清洗是指利用机械设备配备高压气流、臭氧、激光、等离子体、紫外线等方法来清洁基材表面的方法。

与湿法清洗不同,干法清洗一般需要利用加压或者抽真空的方式来达到清洗目的,清洗可以实现精准控制且清洗比较彻底,不会引入二次污染,受到越来越多的关注。

等离子清洗机

等离子清洗机是通过电源激发等离子体轰击基材表面,在轰击的过程利用物理冲击可以去除吸附在基材表面的微颗粒,同时可能造成基材表面的微刻蚀;因此可以用于基材的超精密清洗。等离子体在轰击基材表面的污染物时,还可以与污染物进行反应,形成容易挥发的物质,利用真空抽走,对基材表面的有机物残留具有较好的去除作用。等离子体清洗的最大特点是:大部分处理对象的基材类型,均可以进行处理。

在OLED器件制备过程中,阳极形成的ITO层表面极易吸附外来原子,使表面产生污染。另外,环境空气中还会存在大量水分,由于金属氧化物表面被切断的化学键为离子键或强极性键,易与极性很强的水分子结合,因此,ITO的表面非常容易被水气污染。

氧等离子不仅可以改变ITO表面的化学组成,还可以去除表面含有的碳,对OLED器件性能具有较好的提升作用;而氩等离子体虽然不能改变器件表面的化学组成,但是可以对表面清洁,同时去除吸附在器件表面的氧,提升器件性能。

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