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低温等离子体表面处理仪

  • 产品型号:NE-PE10F
  • 性能特点:射频电源,多层处理电极板
  • 产品用途:材料表面活化、改性
  • 产品介绍
  • 产品参数
低温等离子体表面处理仪主要由供气控制单元,真空室,等离子发生器,真空泵,等几部分组成,通过电容式耦合射频辉光放电的方式产生低温等离子体。等离子体中含有丰富的离子、电子、自由基等活性粒子,可以对材料表面产生多种效应。在刻蚀和清洁作用的同时,等离子体中的活性粒子将羧基(-COOH)、羟基(-OH)等含氧功能基团引入材料表面,增强材料表面的活性位点,提升材料的表面能,实现材料的表面活化。
 

低温等离子体表面处理仪工作流程:


设定低温等离子体处理仪参数→样品放入处理腔正极板上→打开真空泵→待真空度降至100Pa以下→开启放电电源→处理完毕取出样品

低温等离子体表面处理仪真空室处理腔原理图如图1.1所示
 低温等离子体表面处理仪真空处理腔原理图
图1.1 低温等离子体表面处理仪真空处理腔原理图

 

低温等离子体表面处理原理:


等离子体改性高分子材料时,主要是其中的活性粒子起作用。这些活性粒子在高分子材料表面产生许多复杂的作用,包括刻蚀、交联、表面刻蚀、产生自由基、引入极性基团等。

极性基团的引入
在等离子体表面处理时,高分子表面会形成大量自由基,与大气中的氧接触后则会发生氧化作用,形成亲水性的基团。如羟基、羧基等,会使材料的亲水性、粘结性得到改善,同时通过等离子体表面处理之后,聚合物表面的元素含量比例会发生比较明显的变化。

等离子处理后还可以在聚合物表面引入各种极性基团,如NH3等离子体或N2和O2混合等离子体可以在高分子表面引入胺基、亚胺基或腈基等。

表面交联
等离子体轰击聚合物表面,可使聚合物表面产生自由基,正负电子,稳态和亚稳态的原子。其中电子、原子、自由基攻击聚合物表面而移除聚合物表面的H原子而形成活性网点,聚合物表面的自由基活性点相互反应而形成表面交联。

表面刻蚀
在等离子体处理过程中,等离子体中的活性粒子会高速撞击到材料的表面,并造成刻蚀作用,使材料表面变得凹凸不平,增加材料表面的粗糙度。刻蚀主要分为两种,物理溅射和化学刻蚀。

低温等离子体表面处理仪属于干式处理设备,没有化学改性中不可或缺的烘干、废水处理等工序,具有工艺简单、节约能源、绿色无污染等优点。更重要的是,等离子体处理仅仅涉及材料浅表面,作用深度在纳米级别,一般不会影响材料本身的整体性能。

型号 NE-PE10F低温等离子体表面处理仪
射频电源 13.56MHz
功率 0-300W可调
真空度 <30Pa
工艺气体通道 两路(标配,可定制多路)
腔体尺寸 长230mm×高175mm×深270mm
腔体材质 不锈钢
外形尺寸 长600mm×宽530mm×高574mm

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