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等离子体处理仪NE-PE05F

  • 产品型号:NE-PE05F
  • 性能特点:射频等离子体发生器,等离子密度大
  • 产品用途:材料表面活化、清洁、改性、蚀刻
  • 产品介绍
  • 产品参数
NE-PE05F等离子体处理仪采用电容式耦合辉光放电,内电极放电形式。电源为200W射频功率源,频率为13.56MHz。输出功率连续可调,射频电源与射频匹配器配合,通过阻抗匹配网络调节射频等离子体的入射功率和反射功率,使发生器与等离子体阻抗相匹配。射频放电产生的等离子体密度大分布均匀,适合处理精度要求高的材料。
 

低温等离子体处理仪的工艺流程:


设定低温等离子体处理参数→样品放入处理腔内→打开真空泵→待真空度降至100 Pa以下→打开工艺气体通道(空气等)→开启放电电源→取出样品 。

等离子体处理原理:


等离子体表面处理就是让等离子体与材料表面接触,在等离子体作用下改变材料表面性能。等离子体表面处理通常采用非聚合性气体如Ar、N2、H2、O2等,参与等离子体表面处理反应。
 
电子在等离子体活性粒子中质量小、运动速度快、能量高。电子和表面的相互作用主要的表现有三种:电子轰击引起的二次电子发射,电子轰击物体表面促使物体表面的吸附分子解离和电子诱导的化学反应等。
 
离子和表面反应分为三类:离子在物体表面的复合和离子入射物体表面引发二次电子发射、离子注入物体表面内部将动量传递给晶格原子致使晶格原子激发或电离,入射离子被物体表面反射或捕获同时入射离子的轰击还可能是物体表面溅射出粒子、离子诱导表面化学发应等。
 
自由基和原子与表面的相互作用,主要是自由基和原子易被化学吸附在对其母体分子呈惰性的表面上。对于电子碰撞激发的亚稳态分子易被解激发,解激发有可能导致化学反应和脱附。

 
等离子体处理是一种清洁、环境友好的表面处理技术,对材料的整体性能不产生影响,因此广泛应用于材料的表面处理,以提高其润湿性、界面黏结性能等。与放射线处理、电子束处理等其他干式工艺相比,等离子体表面处理的独特之处在于其作用深度仅涉及距离材料表面几纳米到几百纳米范围,只改变材料表面的物理和化学特性,材料本身物理、化学特性不发生改变。这些优点使得低温等离子体技术成为改善材料界面结合效果的一种重要手段。

型号 NE-PE05F
功率 0-200W可调
频率 13.56 MHz
腔体材质 进口316不锈钢
腔体容积 5L
腔体尺寸(圆形) Φ150×280(D)mm
有效处理范围 130(W)*245(D)mm
真空度 <30Pa
工艺气体通道 两路(可通入氧气、氩气、氢气氮气等)
控制方式 PLC+触摸屏控制
外形尺寸 560mm(L)×550mm(W) ×530 mm(H)
整机功率 1000W

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